Intel CEO近日在财报电话会议上晓示，该公司顺利摄取了天下第二台价值3.83亿好意思元的High NA EUV（极紫外光刻机）。

High NA EUV光刻机是现时来源进的芯片制造拓荒之一，其辨别率高达8纳米，能显贵进步芯片的晶体管密度和性能。该拓荒是杀青2nm以下先进制程大畛域量产的蹙迫器具。

帕特·基辛格示意，这台第二台High NA EUV光刻机将很快插足Intel位于好意思国俄勒冈州的晶圆厂，并有望救济公司分娩新一代更雄壮的运筹帷幄机芯片。

此前，Intel已在昨年12月摄取了天下首台High NA EUV光刻机，炒黄金并在俄勒冈州晶圆厂完成了拼装。这次引入第二台拓荒将进一步增强Intel在高端芯片制造领域的竞争力，并有可能匡助公司在2025年高出台积电等竞争敌手。

High NA EUV光刻机的引入是Intel "IDM 2.0"战术的一部分，该战术旨在通过工夫鼎新和工艺进步，重新树立Intel在天下半导体产业的指令地位。

Intel贪图在2027年前将High NA EUV工夫驾御于交易分娩，并瞻望到2030年杀青代工业务进出均衡。这一举措关于激动行业的发展以及提高家具质能具有蹙迫意旨。

来源：https://www.top168.com/news/202408/39919.html

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